Lågtemperatur tunnfilmssysntes
- Diarienummer
- A3 00:76
- Start- och slutdatum
- 000101-051231
- Beviljat belopp
- 33 000 000 kr
- Förvaltande organisation
- Linköping University
- Forskningsområde
- Materialvetenskap och materialteknologier
Summary
Inom programmet försöker man att förstå och kontrollera hela processen från var en atom och/eller radikal är bildad i en beläggningskälla genom dess transportfas och slutliga inkorporering i en växande film. Forskningsprogrammet är indelat i fyra forskningsområden: plasma PVD processer, syntes av Grupp III-nitrider, syntes av karbider och kolnitrider samt reaktioner i restgaser. Målet är att nå en världsledande ställning inom grundforskning om syntes av tunnfilm från gasfas vid relativt låga depositionstemperaturer, att utveckla nya material, framställa ytlager i atomär skala och utveckla industrirelevanta processer.